与传统电镀技术相比，真空镀膜具有镀层薄，速度快，附着力好等优势，适合中国金属、塑料等表面信息处理。且没有废水环境污染，在环保上具有存在一定发展优势，因此我们受到了社会市场的追捧。

常见的真空镀膜工艺分为蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积镀膜。它们各有优势和针对性，如何选择合适的真空镀膜已成为生产企业发展和创新的必然课题。

一、真空蒸发镀膜

真空蒸发镀膜是在真空条件下，被蒸发的物质被蒸发器加热升华，蒸发的颗粒直接流向基片并沉积在基片上形成固体薄膜，或者蒸发的镀膜材料被加热的一种真空镀膜方法。

优点: 设备简单，操作方便; 膜纯度高，厚度可以更精确地控制; 成膜速度快，效率高。

缺点:密度差(只有理论密度的95%)；薄膜附着力小。

目前，真空蒸发镀膜技术更多的应用于中国建筑信息工程公司五金、卫浴五金、钟表、小五金，甚至轮毂、不锈钢型材、家具、照明控制设备及酒店文化用品、装饰品的表面进行处理。

二、真空溅射镀膜

当具有数十电子伏特或更高动能的带电粒子轰击材料表面时，原子获得足够的能量飞溅到气相中。真空溅射镀膜是利用溅射现象来实现各种薄膜的制备。

优点：膜厚可控性和重复性好；与基片的附着力强；膜层纯度高质量好；可制备与靶材不同的物质膜。

缺点：成膜速度比蒸发镀膜低；基片温度高；易受杂质气体影响；装置结构较复杂。

目前最常用的溅射镀膜技术是磁控溅射镀膜技术。这种技术能增加与气体的碰撞几率，提高靶材的溅射速率，最终提高沉积速率。因此更适用于具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的功能性薄膜、装饰领域、微电子领域。

三、真空离子镀膜

真空离子镀膜是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上不断发展结合起来的一种镀膜新技术。通过在等离子体中进行分析整个气相沉积形成过程，真空离子镀膜技术工艺设计大大增加提高了膜层粒子作为能量，可以自己获得更多更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用研究领域。

优点: 附着力强，不易脱落; 提高涂膜覆盖率; 涂布质量; 成膜速度快，密度高，颗粒小。

缺点:基板必须是导电材料。

由于镀膜技术性能更加出色，真空离子镀膜有着更多更广的应用研究领域，目前我国主要可以应用于：机械设计零件、飞机、船舶、汽车、排气管、飞机作为发动机、高速转动件、工具、超硬工模具等。

化学气相沉积(CVD)

CVD技术使用气态化合物或化合物的混合物在基底的加热表面上反应，从而在基底表面上形成非挥发性涂层。

优点: 操作简单，柔韧性强，适用于单一或复合薄膜和复合薄膜; 适用范围广; 沉积速度可达每分钟几微米到几百微米，生产效率高; 适用于复杂形状的基材涂布; 涂布致密性好。

缺点:沉积温度高容易导致基板性能下降；反应气体和尾气可能具有一定的腐蚀性、易燃性和毒性；涂层很薄。