减反射膜

减反射膜又称增透膜，其主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面反射镜等表面反射，从而增加这些元件的透过率，减少或消除杂散光系统。

减反射膜原理

反光膜是基于光的波动和干涉现象。两个相同振幅、相同波长的光波叠加，光波振幅增强；如果两个光波有相同的原点，波的路径不同，如果叠加，就会互相抵消。

反射膜是利用这一原理，在透镜表面涂上反射膜，使膜前后表面发生干扰，从而抵消反射光，达到防反射的效果。

减反射膜应用

减反射膜在实践中应用广泛，最常见的是透镜和太阳能电池——通过制备减反射膜来提高光伏组件的功率瓦数。

早期的光伏电池可以采用不同二氧化硅和二氧化钛膜作为减反射层。

氮化硅是目前用于晶体硅光伏电池的减反射膜材料。等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术用于电离氨和硅烷，这些氨和硅烷沉积在高折射率的硅片表面，可以发挥更好的抗反射效果。

减反射膜制备方法

溶胶-凝胶法是以化学活性成分高的化合物为前驱体，将这些原料在液相中均匀混合，进行水解和缩合化学反应，在溶液中形成稳定的透明溶胶体系，然后通过提拉、镀膜等工艺在基底上获得减反射膜。

化学化学气相沉积(CVD)是在衬底上沉积薄膜，衬底加入含有元素的气体，这些元素通过化学反应形成薄膜，使用诸如加热、等离子体和紫外光等能源，可以制备出正辛、硫化锌、二氧化硅和碳化硅减反射薄膜。

磁控溅射法是在高真空中充入适量的氩气，在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极镀膜室壁之间施加DC电压，使镀膜室内产生磁控异常辉光发电，使氩气电离。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，中性的靶材原子(或分子)沉积在基底上形成薄膜。氧化钽和氮化硅膜最常用磁控溅射法制备。